Plasmatreater AS400 ラボ用システム用X‐Y‐Z移動システム

AS400にX‐Y‐Z移動システムを取り付けることにより、処理密度や最大処理幅など、自由に設定可能な処理パラメータを決定し、ノズルや基材から表面までの間隔を高い精度で設定することができます。処理速度は、1 m/分から最大100 m/分まで無段階で変更することができます。また処理幅は、1 mm刻みで調整することができます。ノズルから基材までの間隔は、最大40 mmまで手動で連続的に調整することができます。

AS400に搭載したX‐Y‐Z移動システム。

オプションとして設置可能なコンポーネント:

  • Z軸自動調整装置
  • 真空プレートによる基質の取り込み
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