開催日時:2020年12月16日(水)、15時 -
所要時間: 40分ほど(Q&Aも含みます)
プラズマ化学気相蒸着(PECVD)などの蒸着コーティングはよく知られているコーティング技術で、一般的にも使用されるプロセスです。しかしながら真空での蒸着工法には生産コスト・設備投資・基板への熱負荷・サイクルタイムへの影響など様々な弱点があります。
そこで弊社の技術を応用して、Openair-Plasma® 及び、 PlasmaPlus®を利用した大気圧下でのPECVDプロセスを開発しました。このPECVD工法を活用した電子アプリケーションでの特長や応用例も合わせてご紹介いたします。
このウェビナーは質疑応答を含め40分〜60分を予定しております。このウェビナーに関するご相談・ご質問がございましたらウェビナー前にこちらまでご連絡ください。
ご参加いただくには事前登録が必要です。ご参加の受付登録完了の通知は後日、表記名「Nihon Plasmatreat <no-reply@zoom.us>」より、ご登録いただいたメールアドレスにお送りいたします。
当方の都合上、ご参加のご希望に添えない場合もございます。その旨の通知も送付させていただきますが、何卒ご了承願います。
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